Optical Proximity Correction
- Optical Proximity Correction
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Optical Proximity Correction (deutsch etwa: optische Nahbereichskorrektur), meistens durch OPC abgekürzt, ist ein datentechnisches Verfahren in der Halbleitertechnologie zur Verbesserung der Abbildungsleistung fotolithografischer Prozesse. Dabei werden Verzerrungen der optischen Abbildung (insbesondere wellenoptische Effekte bei abzubildenden Strukturen in der Größenordnung der Licht Wellenlänge oder darunter) auf der Photomaske kompensiert.
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