Reticle

Reticle
Stepper (links:MA-6) und Mask-Aligner (rechts: MJB3) unter photochemisch unwirksamer Belichtung („Gelblicht“)

Ein Stepper ist in der Halbleiterindustrie Anlage zur Belichtung und Strukturierung eine Fotolacks bei der Fotolithografie.

Der Stepper überträgt mit Hilfe der Photolithografie mikrofeine Strukturen auf einen Wafer. Hierbei wird ähnlich wie bei einem Dia-Projektor eine Vorlage (Maske, engl. reticle), von Licht durchschienen und auf eine lichtempfindliche Schicht (Fotolack, engl. resist) projiziert. Die Strukturen der Vorlage werden dabei stark verkleinert, so dass Linienbreiten bis hinunter auf 65 Nanometer und weniger erreicht werden. Ein Problem stellt besonders die erforderliche hohe Positioniergenauigkeit (Overlay) unter dem Linsensystem dar. Stepper verwenden Projektionsbelichtung, was bedeutet, dass mehrere Schritte (engl. steps) pro Wafer nötig sind um diesen komplett zu belichten, woraus sich der Name ableitet.

Als Stepper werden allerdings auch oft Schrittmotoren bezeichnet.


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