Minimum Feature Size

Minimum Feature Size

Minimum feature size (F) ist eine Längeneinheit in der fotolithografischen Herstellung von Halbleiterelementen. Sie hat immer den Wert der kleinsten lithografisch herstellbaren Struktur. Da die Form und Zusammenstellung von Halbleiterelementen sich größtenteils nicht ändert, sondern nur die Herstellungstechnik, wird die Größe in Vielfachen der kleinsten Einheit angegeben (z. B. eine SRAM-Speicherzelle mit ca. 140 F² und eine DRAM-Speicherzelle mit ca. 6–10 F²).[1]

Literatur

  • Chris Mack: Fundamental principles of optical lithography. Wiley-Interscience, 2008, ISBN 9780470018934, S. 9–11.

Einzelnachweise

  1. ↑ Dean A. Klein: The Future of Memory and Storage: and Storage: Closing the Gaps Closing the Gaps.Microsoft WinHEC 2007.

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