Kikuchi-Linie

Aufnahme eines Siliziumeinkristalls mit einem 300keV-Elektronenstrahl 7,9° von der [100] Ebene gekippt

Kikuchi-Linien sind charakteristische Linien, die in Transmissionselektronenmikroskopen entstehen.

Entstehung

Die Kikuchi-Linien entstehen durch Mehrfachstreuung der Elektronen. Wird ein Material mit Elektronen beschossen, haben diese eine definierte kinetische Energie. Nun kann es passieren, dass die Elektronen nicht nur einmal an der Probe gestreut werden, sondern nach der ersten Streuung isotrop und mit zufälligem Wellenvektor weiterfliegen und nochmals gestreut werden. Der Energieverlust bei der ersten Streuung muss dabei aber klein gegenüber der Elektronenenergie sein.

Anhand eines Kristallgitters lässt sich dies mit hilfe der kinematischen Streutheorie einfach erklären, obwohl es sich hier um ein dynamisches Phänomen handelt:

Nach der Laue-Bedingung gilt: $\vec k - \vec k' = \vec G$. Im Gegensatz zur Ewald-Konstruktion wird der Vektor $\vec k$ an einem Gitterzentrum angetragen. Dabei bildet er eine Kugel um diesen Punkt. Jeder Schnittpunkt dieser Kugel mit dem Brillouin-Zonenrand ergibt einen Reflex. Während bei der Ewald-Konstruktion also einzelne Punkte getroffen werden und so das Beugungsbild auch punktförmig ist, schneiden sich hier Kugel und Fläche (je nach Brillouinzone) und es entsteht dadurch ein Linienmuster.

Anwendung

Die Kikuchi-Linien lassen sich bei Elektronentransmission ebenso beobachten wie bei der Elektronenbeugung. Eine häufige Anwendung findet sich im Zusammenhang mit dem RHEED-Verfahren. Dabei kann der Kristall mit dem dort beschriebenen Verfahren ebenso analysiert werden, wie mit Hilfe der Kikuchi-Linien, die ebenfalls zu beobachten sind.