Dawon Kahng

Dawon Kahng

Dawon Kahng (* 4. Mai 1931 in Keijō, Unterprovinz Keikidō, Provinz Chōsen, damaliges Japanisches Kaiserreich, heutiges Südkorea; † 13. Mai 1992 in New Brunswick, New Jersey[1]) war ein südkoreanischer Physiker und Präsident des NEC Research Institute. Seine Erfindungen führten zu erheblichen Fortschritten in der Elektronik bzw. Mikroelektronik.

Leben und Werk

Nach dem Dienst in der südkoreanischen Marineinfanterie studierte Kahng zunächst Physik an der Seoul National University. Dort machte er einen Abschluss als Bachelor of Science (B.Sc.). Anschließend emigrierte D. Kahng 1955 in die USA, um an der Ohio State University zu studieren. Nach einem Abschluss als Master of Science (M.Sc.)[2] promovierte (Ph.D.) er 1959[3]. Anschließend wurde er Mitarbeiter der Bell Telephone Laboratories, heute Lucent Technologies, in Murray Hill, NJ. Dort arbeitete er unter Martin M. Atalla an der Herstellung eines Silizium-Feldeffekttransistors. Gemeinsam stellten sie 1960 den ersten funktionsfähigen Metall-Oxid-Halbleiter-Feldeffekttransistor (MOS-FET) her und stellten diesen auf der IRE Solid-State Device Research Conference im selben Jahr vor.[4] Ebenfalls 1960 wurde ein entsprechendes Patent[5] angemeldet. Seitdem hat sich der Silizium-MOS-Transistor zu einem der wichtigsten Bauelemente in der Elektronik entwickelt und bildet heute in millionen- und milliardenfacher Ausführung das Grundelement der meisten integrierten Schaltungen.

Kahng blieb bis zu seiner Pensionierung im Jahr 1988 bei den Bell Laboratories. Dort leitete und beaufsichtigte er unter anderem Forschungsgruppen im Bereich Hochfrequenz-Schottky-Dioden, ferroelektrische Halbleiter, Halbleiter mit großem Bandabstand, Charge-coupled Devices und Flash-Speicher. Für seine Arbeiten erhielt Kahng diverse Auszeichnungen, darunter die Stuart Ballantine Medal des Franklin Institute (1975) und der Distinguished Alumni Award der Ohio State University, College of Engineering. Nach seinem Ausscheiden aus den Bell Laboratories wurde Kahng Gründungspräsident des NEC Research Institute, das langfristige Grundlagenforschung im Bereich Computer- und Kommunikationstechnologien betreibt.

D. Kahng starb am 13. Mai 1992 im St. Peter’s Hospital in New Brunswick an Komplikationen nach einer Notoperation wegen eines rupturierten Aortenaneurysma. Kahng hinterließ seine Frau Young Hee und fünf Kinder: Kim U., Vivienne, Lily, Eileen und Dwight.

Quellen

Einzelnachweise

  1. ↑ Dawon Kahng. Computer History Museum, abgerufen am 6. Juli 2010.
  2. ↑ Dawon Kahng: The thermionic emission microscope. 1956, OCLC 53452289 (Master-Arbeit an der Ohio State University, 1956).
  3. ↑ Dawon Kahng: Phosphorus diffusion into silicon through an oxide layer. 1959, OCLC 53452289 (Doktorarbeit an der Ohio State University, 1959).
  4. ↑ D. Kahng, M. M. Atalla: Silicon-silicon dioxide surface device. In: IRE Device Research Conference, Pittsburg. 1960.
  5. ↑ Patent US3102230: Electric field controlled semiconductor device. Angemeldet am 31. Mai 1960, veröffentlicht am 1963, Erfinder: D. Kahng.

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